一、物理氣相沉積（PVD）鍍膜機(jī)
1.工作原理
在真空環(huán)境下，通過加熱或離子轟擊等方式使鍍膜材料蒸發(fā)或?yàn)R射，形成氣態(tài)原子或離子，然后這些氣態(tài)粒子在工件表面沉積并凝結(jié)成薄膜。具體來說，蒸發(fā)鍍膜是利用高溫?zé)嵩词瑰兡げ牧险舭l(fā)，氣態(tài)原子在工件表面冷凝形成薄膜；濺射鍍膜則是利用高能離子束轟擊鍍膜材料靶材，使靶材原子濺射出來，沉積在工件表面形成薄膜。
2.結(jié)構(gòu)
真空系統(tǒng)：由真空泵、真空腔室等組成，用于創(chuàng)造并維持鍍膜所需的高真空環(huán)境，以確保氣態(tài)鍍膜材料能夠在無干擾的情況下到達(dá)工件表面并沉積。
蒸發(fā)或?yàn)R射源：根據(jù)不同的鍍膜方法，配備相應(yīng)的蒸發(fā)源（如電阻加熱蒸發(fā)源、電子束蒸發(fā)源等）或?yàn)R射源（如磁控濺射靶等），用于產(chǎn)生氣態(tài)的鍍膜材料。
工件架：用于放置待鍍膜的工件，通?？梢孕D(zhuǎn)或擺動(dòng)，以保證鍍膜的均勻性。
監(jiān)控系統(tǒng)：包括薄膜厚度監(jiān)控儀等，用于實(shí)時(shí)監(jiān)測鍍膜的厚度和質(zhì)量，以便精確控制鍍膜過程。
二、化學(xué)氣相沉積（CVD）鍍膜機(jī)
1.工作原理
利用氣態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在高溫、等離子體等條件下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成固態(tài)的薄膜物質(zhì)，并沉積在工件表面。例如，通過將含有鍍膜元素的氣體和反應(yīng)氣體通入反應(yīng)腔室，在加熱或其他激勵(lì)條件下，氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成所需的薄膜材料并在工件表面沉積。
2.結(jié)構(gòu)
反應(yīng)腔室：是化學(xué)反應(yīng)發(fā)生的場所，通常由耐高溫、耐腐蝕的材料制成，內(nèi)部設(shè)有加熱裝置，可精確控制反應(yīng)溫度。
氣體供應(yīng)系統(tǒng)：包括各種氣體的儲(chǔ)存罐、流量計(jì)、閥門等，用于精確控制通入反應(yīng)腔室的氣體種類、流量和比例。
尾氣處理系統(tǒng)：用于處理反應(yīng)過程中產(chǎn)生的有害氣體，以保護(hù)環(huán)境和操作人員的安全。
工件承載裝置：用于放置工件，確保工件在反應(yīng)過程中能夠均勻地接受氣體的作用，以獲得均勻的鍍膜。
控制系統(tǒng)：用于控制反應(yīng)的溫度、氣體流量、反應(yīng)時(shí)間等參數(shù)，以保證鍍膜過程的穩(wěn)定性和重復(fù)性。
