一、光刻機(jī)是誰發(fā)明的

1822年法國(guó)人Nicephore niepce（尼埃普斯）發(fā)明了光刻機(jī)，起初是Nicephore niepce發(fā)現(xiàn)了一種能夠刻在油紙上的印痕，當(dāng)其出現(xiàn)在了玻璃片上后，經(jīng)過一段時(shí)間的暴曬，透光的部分就會(huì)變得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油將其洗掉。

盡管光刻機(jī)發(fā)明的時(shí)間較早，不過在其發(fā)明之后，并沒有在各行業(yè)領(lǐng)域之中被使用，直到第2次世界大戰(zhàn)時(shí)，該技術(shù)應(yīng)用于印刷電路板，所使用的材料和早期發(fā)明時(shí)使用的材料也已經(jīng)有了極大的區(qū)別，在塑料板上通過銅線路制作，讓電路板得以普及，短期之內(nèi)就成為了眾多電子設(shè)備領(lǐng)域中最為關(guān)鍵的材料之一。

如今，光刻機(jī)已經(jīng)成為半導(dǎo)體生產(chǎn)制造的主要生產(chǎn)設(shè)備，也決定了整個(gè)半導(dǎo)體市場(chǎng)水平工藝的象征。

二、光刻機(jī)制造需要哪些技術(shù)

光刻機(jī)的制造體系非常復(fù)雜，有兩點(diǎn)至關(guān)重要，即精密零部件和組裝技術(shù)。

1、精密零部件

一臺(tái)光刻機(jī)的制造需要數(shù)萬個(gè)精密零部件。通常來說，一臺(tái)光刻機(jī)的制造需要大約八萬個(gè)精密零件，而目前世界上最為先進(jìn)的極紫外EUV光刻機(jī)所需要的制造零件更是高達(dá)十萬余個(gè)。

一套完整的光刻機(jī)包括多個(gè)組成系統(tǒng)，主要包括曝光系統(tǒng)、自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、整機(jī)軟件系統(tǒng)等。其中，曝光系統(tǒng)更是包含了照明系統(tǒng)和投影物鏡。

在組成光科技的所有核心精密零件中，光學(xué)鏡頭、光學(xué)光源、雙工作臺(tái)又可以說是核心中的核心。

擁有高數(shù)值孔徑的光學(xué)鏡頭是決定光刻機(jī)的分辨率和閾值誤差能力。而分辨率和套值誤差能力對(duì)于一臺(tái)光刻機(jī)具有至關(guān)重要的重要性。而世界上最為先進(jìn)的EUV極紫外光刻機(jī)唯一可以使用的鏡頭就是由蔡司公司生產(chǎn)的鏡頭。

光刻機(jī)的光學(xué)光源所包含的光源波長(zhǎng)是決定光刻機(jī)工業(yè)能力的重要部分。需要特別注意的是，光刻機(jī)所需要的光源，必須具備體積小、功率高以及穩(wěn)定的幾個(gè)特點(diǎn)。

比如說極紫外EUV光刻機(jī)所使用的光源波長(zhǎng)是僅僅只有13.5納米的極紫外光，其所使用的光學(xué)系統(tǒng)極為復(fù)雜。

光刻機(jī)中所需要的工作臺(tái)系能夠影響光刻機(jī)運(yùn)行過程中的精度和產(chǎn)效，含有的綜合技術(shù)難度非常高。因?yàn)檫@種工作臺(tái)中具有承載硅片來能夠完成光刻機(jī)運(yùn)行過程中的一系列超精密的運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)，其中包括上下片、對(duì)準(zhǔn)、景圓面型測(cè)量、曝光等等。

2、組裝技術(shù)

一臺(tái)光刻機(jī)不僅需要精密的零件，這些零件的組裝技術(shù)也至關(guān)重要。

當(dāng)所有零件都準(zhǔn)備就緒之后，接下來的組裝過程將直接影響一個(gè)光刻機(jī)的運(yùn)行效能?，F(xiàn)在光刻機(jī)主要生產(chǎn)商荷蘭ASML公司（中文譯名：阿斯麥爾）的生產(chǎn)過程從本質(zhì)上來說更像是一個(gè)零件組裝公司，因?yàn)锳SML公司生產(chǎn)光刻機(jī)所需要的將近90%的部件是從世界各地采購(gòu)，其在世界上擁有超過五千家供應(yīng)商。

換句話說，ASML公司之所以能夠在光刻機(jī)制造技術(shù)上打敗尼康以及佳能等其他光刻機(jī)生產(chǎn)對(duì)手，從而在全球光刻機(jī)制造和銷售市場(chǎng)上占據(jù)領(lǐng)先地位，一個(gè)重要原因就是強(qiáng)大的組裝技術(shù)。

一家強(qiáng)大的光刻機(jī)組裝企業(yè)需要具有各種嫻熟的技術(shù)工人和各種組裝方面的知識(shí)產(chǎn)權(quán)，從而能夠清楚明白各種精密元件如何組裝，進(jìn)而通過他們嫻熟的操作和系統(tǒng)的知識(shí)來快速和精確的制造一臺(tái)光刻機(jī)。

我國(guó)目前在光刻機(jī)的技術(shù)方面，經(jīng)過近二十年的關(guān)鍵技術(shù)攻克，已經(jīng)取得長(zhǎng)足發(fā)展。

從光刻機(jī)雙工作臺(tái)來說，中國(guó)華卓精科與清華團(tuán)隊(duì)生產(chǎn)聯(lián)合研制的雙工作臺(tái)已經(jīng)打破ASML的技術(shù)壟斷，至于光刻機(jī)的同步光源設(shè)備和光學(xué)鏡頭的技術(shù)也在哈工大等全國(guó)知名科研機(jī)構(gòu)的潛心研究中獲得了迅猛發(fā)展。

可以說，目前我國(guó)人才、資源、資金等各個(gè)方面都已具備，未來我們擁有屬于自己的光刻機(jī)只是時(shí)間問題，未來前景可期！