著錄信息
- 專利名稱：噻吩并四氫吡啶衍生物光學異構體的消旋方法
- 專利類型：發(fā)明
- 申請?zhí)枺?/em>CN200510061231.4
- 公開(公告)號：CN100503614C
- 申請日：20051021
- 公開(公告)日：20090624
- 申請人：浙江華海藥業(yè)股份有限公司,中國科學院成都有機化學有限公司
- 發(fā)明人：王立新,唐毅,陳一,田芳
- 申請人地址：317024浙江省臨海市汛橋鎮(zhèn)利莊
- 申請人區(qū)域代碼：CN331082
- 專利權人：浙江華海藥業(yè)股份有限公司,中國科學院成都有機化學有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：C07D495/04
- 優(yōu)先權：無
- 專利代理機構：杭州天正專利事務所有限公司
- 代理人：王兵;黃美娟
- 審查員：雷琴
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進入國家日期：無
- 分案申請：無
關鍵詞
光學異構體,四氫吡啶,消旋體,相轉移催化劑,商業(yè)化生產,手性化合物,環(huán)保優(yōu)勢,壓力條件,乙酸鹽,拆分,堿解,手性,廢棄物,生產成本,轉化,環(huán)保
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